Два производителя только что представили новый тип чипа с низким энергопотреблением, который может продлить срок службы батарей смартфонов на неделю. Для достижения этой цели они разработали новый процесс проектирования полупроводников на основе вертикальной архитектуры, которая позволяет снизить энергопотребление на 85% по сравнению с традиционной архитектурой, используемой сегодня.
По мере развития технологий спрос на повышение производительности и энергоэффективности электронных компонентов продолжает расти. В этом контексте несколько месяцев назад IBM представила новый производственный процесс для полупроводников с 2-нанометровыми листами, который теоретически может обеспечить более высокую производительность на 45% или более низкое энергопотребление на 75% по сравнению с наиболее продвинутыми 7-нанометровыми чипами — размеры 2 нм и 7 нм означают размеры нанесенного травления.
«Инновации IBM, отраженные в этом новом 2-нм чипе, имеют решающее значение для всей полупроводниковой и вычислительной промышленности«, — сказал тогда Дарио Гил, старший вице-президент и директор IBM Research. И не зря: новая технология позволяет разместить до 50 миллиардов транзисторов на чипе размером с ноготь, утверждает производитель. Эти 2-нм чипы потенциально могут увеличить срок службы батарей телефонов в четыре раза, увеличив интервал между каждой подзарядкой примерно на четыре дня, и значительно ускорить работу ноутбуков.
Но компания IBM в сотрудничестве с Samsung Electronics пошла еще дальше в инновациях: вместе они разработали новую архитектуру полевых транзисторов, получившую название Vertical Transport Field Effect Transistors (VTFET), которая может произвести настоящую революцию в вычислительной технике на долгие годы вперед.
Транзисторы — это полупроводниковые приборы, используемые в большинстве электронных схем; чем больше транзисторов на чипе, тем выше вычислительная производительность. Согласно закону Мура, количество транзисторов на микропроцессорном чипе удваивается примерно каждые два года. Это правда, что транзисторы становятся все меньше и меньше благодаря все более тонкому травлению, но травление не может быть ниже определенного порога. При травлении в 2 нм мы опасно приближаемся к максимальным пределам, налагаемым доступным пространством.