Китайские исследователи представили новую технологию, которая позволяет выявить источник производственных дефектов в процессе изготовления микрочипов. Согласно исследованию, этот метод способен сократить количество ошибок на целых 99%, что знаменует собой значительный прорыв для отечественного производства полупроводников.
войти в систему
Добро пожаловать! Войдите в свою учётную запись
Forgot your password? Get help
восстановление пароля
Восстановите свой пароль
Пароль будет выслан Вам по электронной почте.
